名片曝光使用说明

步骤1:创建名片

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步骤2:投放名片

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关于曝光服务

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一、产品简介

HPB119是一种大孔结构的聚苯乙烯骨架上修饰了对硼离子具有选择性配位功能的高分子聚合物。配位基团可以与硼形成非常稳定的配合物,而对其它阴离子呈惰性,有助于选择性去除水中硼离子。HPB119对pH值比较敏感,只有在中性及碱性溶液中才能发生配位作用,在酸性溶液里配位离子分解。

HPB119适用于:1)氢氧化锂、碳酸氢锂等锂盐溶液纯化。2)制备不含硼的镁盐溶液。12%的氯化镁中一般含100ppm左右的硼,通过树脂处理将硼量降低到

10ppm以下,以生产出优良的镁。3)盐湖卤水、饮用水、灌溉用水等含硼水或料液中硼的去除。4)海水淡化脱硼。5)核反应堆硼含量调节。


二、理化性能指标

名    称

指    标

外观

乳白至米黄色不透明球体颗粒

含水量                                             %

45.0-55.0

粒度范围                                          %

(0.3-1.1mm)≥95

湿视密度                                     g/mL

0.7-0.8

圆球率                                             %

≥95

功能基团

硼配位基团

硼饱和吸附容量                              g/L

≥15.0


三、运行参数

名    称

数    值

吸附剂层高                                   mm

≥600

运行流速                                  BV/H*

2~10

使用pH

5.0~14.0

反洗展开率                                      %

50~80

运行温度                                          ℃

≤80

*BV=Bed Volume,指吸附剂装填体积


四、小试建议

  1. 准确量取一定体积的吸附剂,转入离子交换柱中,建议吸附剂床层高径比3:1左右。

  2. 以2-5BV/H流速泵入含硼料液,取点样判断工作容量和处理体积。

  3. 吸附结束,排尽母液,加入2-3BV 5-8%盐酸,以1-2BV/H再生。再加2BV水洗,流速2BV/H。再加入5%氢氧化钠2BV,以1-2BV/H流速过柱。再用3-5BV水洗,以5BV/H水洗。


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